จีนผลิตเครื่องลิโธกราฟี DUV immersion มวลชน เริ่มส่งมอบให้ SMIC, Hua Hong, CXMT

การผลิตเครื่องลิโธกราฟีแบบ immersion deep‑ultraviolet (DUV) ภายในประเทศจีนได้เข้าสู่ขั้นตอนมวลชนแล้ว บริษัทที่ได้รับการสนับสนุนจากรัฐในเซี่ยงไฮ้เริ่มส่งมอบหน่วยแรกให้กับ SMIC, Hua Hong Semiconductor และ **ChangXin Memory Technologies (CXMT) ในปีนี้ ความก้าวหน้าเรื่องเทคโนโลยีอุปกรณ์ผลิตชิปนี้มีนัยสำคัญต่อการเปลี่ยนแปลงโครงสร้างห่วงโซ่อุปทานของเซมิคอนดักเตอร์ในระดับโลก

Overview

บริษัทจีนที่ไม่ได้เปิดเผยชื่อได้เริ่มทำการผลิตเครื่องลิโธกราฟี DUV แบบ immersion อย่างต่อเนื่องตามข้อมูลจาก The Information โดยอ้างอิงจากแหล่งข่าวสองคนที่คุ้นเคยกับโครงการ การส่งมอบครั้งแรกจะถึงลูกค้า SMIC, Hua Hong และ CXMT ภายในปีนี้ ซึ่งเป็นบริษัทชั้นนำของจีนในด้านการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และหน่วยความจำ

ตามเป้าหมายของผู้ผลิต จำนวนเครื่องที่คาดว่าจะผลิตได้ประมาณ ห้าเครื่อง ในปี 2026 และเพิ่มเป็น ประมาณยี่สิบเครื่อง ในปี 2027 การขยายกำลังการผลิตนี้สะท้อนนโยบายของจีนในการพึ่งพาเทคโนโลยีภายในประเทศเพื่อลดการพึ่งพาผู้จัดจำหน่ายจากต่างชาติ

Production Plans

แม้ว่าจะยังไม่มีข้อมูลเปิดเผยชื่อผู้ผลิตโดยตรง แต่แหล่งข่าวระบุว่าทีมพัฒนา DUV ได้ถูกรวบรวมมาจากหลายบริษัทจีน รวมถึงสตาร์ทอัพที่ได้รับการสนับสนุนจากรัฐ Shanghai Yuliangsheng Technology ซึ่ง SMIC เริ่มทำการทดสอบเครื่อง immersion ของ Yuliangsheng ตั้งแต่เดือนกันยายน 2025

ส่วนประกอบของระบบใหม่ส่วนใหญ่ผลิตในประเทศจีน อย่างไรก็ตาม มีบางชิ้นส่วนสำคัญที่ยังต้องนำเข้าจากญี่ปุ่น ทำให้ความล่าช้าของซัพพลายเออร์ภายในจีนส่งผลกระทบต่อการทำงานของสายผลิตในปีนี้

• เป้าหมายการผลิต
• ปี 2026: ~5 เครื่อง
• ปี 2027: ~20 เครื่อง

Technical Details

เครื่องลิโธกราฟี DUV แบบ immersion ของจีนสามารถพิมพ์ฟีเจอร์ระดับ 28 nm ได้ในครั้งเดียว และผ่านเทคนิค multipatterning สามารถบรรลุความละเอียดถึง 7 nm แม้จะต้องแลกกับการเพิ่มข้อผิดพลาดด้าน overlay และอัตราผลตอบแทนที่ต่ำกว่าเครื่องของ ASML

ตามข้อมูลจาก CEO ของ ASML, Christophe Fouquet การใช้ DUV immersion ยังจำเป็นในตลาด DRAM เนื่องจากลูกค้าบางรายเลือกเปลี่ยนจาก multipatterning ไปสู่ EUV แบบ single‑exposure ที่ต้นทุนต่ำกว่า

Market & Policy Context

เครื่องเหล่านี้ถูกส่งมอบให้กับบริษัทจีนที่อยู่ในรายการ U.S. House Resolution 8170 ซึ่งกำหนดให้ห้ามขายและบริการอุปกรณ์จาก ASML กับ SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei และ YMTC นอกจากนี้กฎหมาย MATCH Act ที่ผ่านคณะกรรมการต่างประเทศของสภาผู้แทนราษฎรเมื่อ 22 เมษายน ยังขยายข้อบังคับให้ครอบคลุมการบริการและช่วยเหลือทางเทคนิคต่อเครื่องที่ติดตั้งแล้วในโรงงานจีน

ASML คาดว่าจะส่งมอบ 130 เครื่อง immersion DUV ในปี 2026 เทียบกับปี 2025 โดยมีแผนเพิ่มกำลังการผลิต 30 % ในปี 2027 และอาจขยายอีก 30 % ในปี 2028 ซึ่งทำให้ส่วนแบ่งของจีนในยอดขายสุทธิของ ASML ลดลงจาก 33 % (2025) เหลือประมาณ **20 % (ปีนี้)

Industry Impact

การเข้าสู่ตลาดของเครื่อง DUV ภายในประเทศอาจยืดเวลาการเปลี่ยนผ่านไปสู่เทคโนโลยี EUV ของจีน แต่ยังคงอยู่ห่างไกลจากมาตรฐานคุณภาพและประสิทธิภาพของ ASML ซึ่งครอง **98.7 % ของตลาด immersion DUV ตามการวิเคราะห์ของ AI Futures Project ในเดือนมิถุนายนที่ผ่านมา

แม้เครื่องใหม่จะต้องใช้เวลาหลายเดือนในการรับรองให้เข้าสู่สายการผลิตจริง และยังอยู่ในระดับที่ตามหลังเครื่องของ ASML ทั้งด้านประสิทธิภาพและความเสถียร แต่การมีอุปกรณ์ภายในประเทศถือเป็นก้าวสำคัญในการลดช่องว่างทางเทคโนโลยีและเพิ่มความมั่นคงของห่วงโซ่อุปทานในยุคที่ข้อจำกัดจากต่างชาติกำลังเข้มข้น

Analysis

จีนยังคงพัฒนาเครื่อง EUV ภายในประเทศ โดยมีการรายงานครั้งแรกว่ามีต้นแบบทำงานได้ในเดือนธันวาคมที่ผ่านมา อย่างไรก็ตามผู้เชี่ยวชาญระบุว่าเทคโนโลยีนี้จะต้องใช้เวลาหลายปีกว่าจะพร้อมใช้งานในระดับเชิงพาณิชย์

การผลิตเครื่อง DUV แบบ immersion ภายในประเทศอาจช่วยให้จีนรักษาการผลิตชิประดับกลางได้ต่อไป แม้ว่าจะยังไม่สามารถแข่งขันกับ ASML ในด้านความละเอียดสูงสุด แต่การสร้างฐานความรู้และห่วงโซ่อุปทานภายในประเทศเป็นส่วนสำคัญของยุทธศาสตร์ “Made in China 2025” ที่มุ่งลดการพึ่งพาเทคโนโลยีจากต่างชาติ

ในระยะสั้น ความล่าช้าของชิ้นส่วนญี่ปุ่นและข้อจำกัดด้านกฎหมายสหรัฐอาจทำให้จีนต้องพึ่งพาการอัปเกรดผ่านช่องทางรอง (secondary‑channel upgrades) มากขึ้น ซึ่งอาจส่งผลต่ออัตราผลตอบแทนของโรงงานในช่วงสองสามปีหน้า

Summary

บริษัทที่ได้รับการสนับสนุนจากรัฐจีนเริ่มผลิตเครื่องลิโธกราฟี immersion DUV อย่างมวลชนและจะจัดส่งให้กับ SMIC, Hua Hong และ CXMT ภายในปีนี้ การพัฒนานี้เป็นส่วนหนึ่งของความพยายามลดการพึ่งพาเทคโนโลยีจากต่างชาติ แม้เครื่องใหม่ยังต้องปรับตัวต่อมาตรฐานอุตสาหกรรมและเงื่อนไขกฎระเบียบระหว่างประเทศ.